原位紅外光譜電化學(xué)分析裝置

主要用途：

本裝置可以和各類(lèi)紅外光譜儀連用，進(jìn)行各類(lèi)原位光譜電化學(xué)實(shí)驗(yàn)：在各類(lèi)電化學(xué)調(diào)制的狀態(tài)下，原位采集紅外光譜信號(hào)，獲得被測(cè)物隨電化學(xué)調(diào)制變化的原位動(dòng)態(tài)的分子結(jié)構(gòu)變化信息，適合于各類(lèi)有電化學(xué)行為的體系（如金屬腐蝕行為、有機(jī)催化過(guò)程、酶和DNA的氧化還原變化等）的原位動(dòng)力學(xué)、熱力學(xué)研究。在分子水平下進(jìn)行電化學(xué)研究，是當(dāng)前世界上電分析化學(xué)研究的前沿和熱點(diǎn)。

注：所有原位光譜電化學(xué)池我們均能提供自制配套的電化學(xué)儀器和同步驅(qū)動(dòng)觸發(fā)軟、硬件程序。實(shí)現(xiàn)真正意義上的原位光譜電化學(xué)檢測(cè)。

本裝置適用于各類(lèi)常規(guī)紅外光譜儀，其特點(diǎn)是反射鏡位置和角度均可精細(xì)調(diào)節(jié)，而且光譜反射界面（通常是電極表面）的位置和角度也均可精密調(diào)節(jié)，保證了測(cè)量時(shí)最優(yōu)化的光強(qiáng)度和信噪比

應(yīng)用范圍：

電解工業(yè)，其中的氯堿工業(yè)是僅次于合成氨和硫酸的無(wú)機(jī)物基礎(chǔ)工業(yè)；

鋁、鈉等輕金屬的冶煉，銅、鋅等的精煉也都用的是電解法；

機(jī)械工業(yè)使用電鍍、電拋光、電泳涂漆等來(lái)完成部件的表面精整；

環(huán)境保護(hù)可用電滲析的方法除去氰離子、鉻離子等污染物；

化學(xué)電源；

金屬的防腐蝕問(wèn)題，大部分金屬腐蝕是電化學(xué)腐蝕問(wèn)題；

許多生命現(xiàn)象如肌肉運(yùn)動(dòng)、神經(jīng)的信息傳遞都涉及到電化學(xué)機(jī)理。

顯微紅外的應(yīng)用

?快速電極界面動(dòng)力學(xué)過(guò)程

?高粘度、非流動(dòng)體系的電化學(xué)反應(yīng)過(guò)程檢

測(cè)

?腐蝕相關(guān)的研究

?細(xì)胞相關(guān)體系研究

反射式紅外光譜電化學(xué)法應(yīng)用

?電極表面構(gòu)建過(guò)程和變化研究

?多方調(diào)制系統(tǒng)的研究

真空型反射式紅外光譜電化學(xué)法的應(yīng)用

?常規(guī)反射式紅外光譜電化學(xué)法的所有應(yīng)用

?水溶液體系

?弱探針分子體系

透射式紅外光譜電化學(xué)法的應(yīng)用

?非水體系

?弱吸附體系

?生物分子體系