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新一代高性能激光浮區(qū)法單晶爐

品牌：美國(guó)Quantum Design
型號(hào)： LFZ-2kW
產(chǎn)地：美洲美國(guó)
供應(yīng)商報(bào)價(jià)：面議

QUANTUM量子科學(xué)儀器貿(mào)易（北京）有限公司更新時(shí)間：2025-05-26 09:44:23

銷售范圍售全國(guó)

入駐年限第10年

營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核

同類產(chǎn)品樣品制備(54件)

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產(chǎn)品特點(diǎn)

-采用全新五束激光設(shè)計(jì)，確保熔區(qū)能量分布更加均勻；

-更加科學(xué)的激光光斑優(yōu)化方案，有助于降低晶體生長(zhǎng)過程中的熱應(yīng)力；

-采用了獨(dú)特的實(shí)時(shí)溫度集成控制系統(tǒng)。

詳細(xì)介紹

新一代高性能激光浮區(qū)法單晶爐-LFZ

Quantum Design Japan公司推出的激光浮區(qū)法單晶生長(zhǎng)系統(tǒng)傳承日本理化研究所(RIKEN,CEMS)的先進(jìn)設(shè)計(jì)理念，新一代高性能激光浮區(qū)爐（型號(hào)：LFZ-2kW）具有更高功率、更加均勻的能量分布和更加穩(wěn)定的性能，將浮區(qū)法晶體生長(zhǎng)技術(shù)推向一個(gè)全新的高度！

應(yīng)用領(lǐng)域

可廣泛用于凝聚態(tài)物理、化學(xué)、半導(dǎo)體、光學(xué)等多種學(xué)科領(lǐng)域相關(guān)單晶材料制備，尤其適合高飽和蒸汽壓、高熔點(diǎn)材料及高熱導(dǎo)率材料等常規(guī)浮區(qū)法單晶爐難以勝任的單晶生長(zhǎng)工作。

激光浮區(qū)法單晶生長(zhǎng)系統(tǒng)可廣泛用于凝聚態(tài)物理、化學(xué)、半導(dǎo)體、光學(xué)等多種學(xué)科領(lǐng)域相關(guān)單晶材料制備，尤其適合高飽和蒸汽壓、高熔點(diǎn)材料及高熱導(dǎo)率材料等常規(guī)浮區(qū)法單晶爐難以勝任的單晶生長(zhǎng)工作，跟傳統(tǒng)的激光浮區(qū)法單晶生長(zhǎng)系統(tǒng)相比，Quantum Design公司推出的新一代激光浮區(qū)法單晶爐系統(tǒng)具有以下技術(shù)優(yōu)勢(shì)：

● 采用全新五束激光設(shè)計(jì)，確保熔區(qū)能量分布更加均勻

● 更加科學(xué)的激光光斑優(yōu)化方案，有助于降低晶體生長(zhǎng)過程中的熱應(yīng)力

● 采用了獨(dú)特的實(shí)時(shí)溫度集成控制系統(tǒng)

RIKEN（CEMS）設(shè)計(jì)的五束激光發(fā)生器原型機(jī)實(shí)物

新一代激光浮區(qū)法單晶爐系統(tǒng)主要技術(shù)參數(shù)：

加熱控制	加熱類型	5束激光
	激光功率	2KW、1.5KW兩種規(guī)格可選
	熔區(qū)溫度	2600℃ ~ 3000℃*
晶體生長(zhǎng)控制	晶體生長(zhǎng)大設(shè)計(jì)長(zhǎng)度	150mm*
	晶體生長(zhǎng)大設(shè)計(jì)直徑	8mm*
	晶體生長(zhǎng)大速度/轉(zhuǎn)速	300mm/hr; 100rpm
	樣品腔可施加大壓力	10bar
	樣品腔氣氛	多種氣路（O2/Ar/混合氣等）可供選配
	晶體生長(zhǎng)監(jiān)控	高清攝像頭
	晶體生長(zhǎng)控制	PC控制