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    JXA-8530F Plus 場(chǎng)發(fā)射電子探針顯微分析儀

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    產(chǎn)品特點(diǎn)

    2003年日本電子推出了世界首臺(tái)商業(yè)化場(chǎng)發(fā)射電子探針(FE-EPMA),此后被廣泛地應(yīng)用于金屬、材料、地質(zhì)等各個(gè)領(lǐng)域,并獲得了極高的贊譽(yù)。zuixin研發(fā)的第三代場(chǎng)發(fā)射電子探針JXA-8530F Plus,電子光學(xué)系統(tǒng)有了很大的改進(jìn),新的軟件能提供更高的通量,并保持著極高的穩(wěn)定性,能實(shí)現(xiàn)更廣泛的EPMA應(yīng)用。

    詳細(xì)介紹

    產(chǎn)品介紹:

    2003年日本電子推出了世界首臺(tái)商業(yè)化場(chǎng)發(fā)射電子探針(FE-EPMA),此后被廣泛地應(yīng)用于金屬、材料、地質(zhì)等各個(gè)領(lǐng)域,并獲得了極高的贊譽(yù)。zuixin研發(fā)的第三代場(chǎng)發(fā)射電子探針JXA-8530F Plus,電子光學(xué)系統(tǒng)有了很大的改進(jìn),新的軟件能提供更高的通量,并保持著極高的穩(wěn)定性,能實(shí)現(xiàn)更廣泛的EPMA應(yīng)用。

    肖特基場(chǎng)發(fā)射電子探針Plus
    JXA-8530F Plus采用浸沒(méi)式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍,優(yōu)化了角電流密度,能利用2 μA以上的大探針電流進(jìn)行分析,還提高了分析條件下的二次電子像的分辨率。

    高級(jí)軟件
    新開(kāi)發(fā)了多種基于Windows操作系統(tǒng)的軟件,其中包括:能使痕量元素分析更加簡(jiǎn)便的“痕量元素分析程序”、能自動(dòng)制作相圖的“相圖制作器”以及只需簡(jiǎn)單輸入就能對(duì)表面凹凸不平樣品進(jìn)行測(cè)試的“不平坦樣品的分析程序”等。
    備注:Windows7 為美國(guó)微軟公司在美國(guó)及其它國(guó)家的注冊(cè)商標(biāo)或商標(biāo)。

    靈活的WDS配置
    X射線波譜儀可以選擇140 R或100 R羅蘭圓, 羅蘭圓半徑為140 mm的XCE/L型X射線譜儀檢測(cè)范圍寬,波長(zhǎng)分辨率高和P/ B比優(yōu)異,100 mm的H型X射線譜儀具有X射線衍射強(qiáng)度高的特點(diǎn),可以根據(jù)需要選擇使用。

    WDS/EDS組合系統(tǒng)
    JXA-8530FPlus標(biāo)配了JEOL制造的30平方毫米 SD檢測(cè)器(以下簡(jiǎn)稱SD檢測(cè)器),憑借高計(jì)數(shù)率的SD檢測(cè)器,在與WDS相同的分析條件下可以進(jìn)行EDS分析,通過(guò)簡(jiǎn)單的操作就能采集EDS譜圖。
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    多功能樣品室
    樣品室的可擴(kuò)展性強(qiáng),配備了樣品交換室,可以安裝各種附件。 可以安裝的附件

    ? 電子背散射衍射系統(tǒng)(EBSD)

    ? 陰極熒光檢測(cè)系統(tǒng)

    ? 軟X射線分析譜儀

    ? 不暴露在大氣環(huán)境下的轉(zhuǎn)移艙

    ? 高蝕刻速率的離子源

    QL、清潔的真空系統(tǒng)
    高QL真空系統(tǒng)包括兩臺(tái)磁懸浮渦輪分子泵, 鏡筒內(nèi)還采用兩個(gè)中間室,通過(guò)差動(dòng)抽氣保持電子槍室的高真空。

    軟X射線分析譜儀 (SXES)
    SXES (Soft X-Ray Emission Spectrometer)  軟X射線分析譜儀

    日本東北大學(xué)多元物質(zhì)科學(xué)研究所(寺內(nèi)正己教授)和日本電子株式會(huì)社共同開(kāi)發(fā)的的高分辨率軟X射線分析譜儀。 新開(kāi)發(fā)的變柵距衍射光柵(VLS)和高靈敏度的CCD相機(jī)組合,同時(shí)檢測(cè)Li-K系譜線和B-K系譜線,該譜儀實(shí)現(xiàn)了極高的能量分辨率,因而能進(jìn)行化學(xué)結(jié)合狀態(tài)分析等。

    miXcroscopy (關(guān)聯(lián)顯微鏡)
    miXcroscopy 光學(xué)顯微鏡/掃描電子顯微鏡關(guān)聯(lián)系統(tǒng)

    能批量登錄光學(xué)顯微鏡指定的坐標(biāo)數(shù)據(jù)作為EPMA的分析點(diǎn),該系統(tǒng)最適合于需要用光學(xué)顯微鏡決定分析位置的樣品。



      


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