中科光電紫外光刻機URE-2000/34AL

 技術參數(shù)

.UV光源：進口LED模塊

.曝光中心波長：365nm

.光源平行性：≤2o

.曝光分辨率： 0.8μm-1μm 

. 最 大曝光能量密度：>35mW/cm2可調

. 照度不均勻性：≤2.5%(直徑150mm范圍)

. 曝光面積：160mm*160mm

. 光源壽命：2萬小時

. 曝光設定：定時

. 曝光頭工作模式：曝光位對準位自動切換（前后移動）

.套準精度：±0.8-1μm

. 可執(zhí)行曝光模式：真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式，

. 間隙設定方式：數(shù)字設定曝光間隙，可自動分離和消除間隙

.樣片、掩模版相對移動范圍：X: ±5mm， Y: ±5mm， θ=±6o

. 掩模版找平方式：球氣浮自動找平

. 可支持掩模版尺寸： 3″×3″、4″×4″、5″×5″、7″×7″各一件

. 標配承片臺 ： 2英寸、3英寸、4英寸、6英寸

. 標準配件可兼容樣片厚度：0.1-6mm，其他尺寸可定制

. 對準系統(tǒng)：光學+CCD,顯微倍數(shù)：放大倍率：150倍-720倍可調

. 雙物鏡可調距離范圍：30mm-120mm

. 顯微掃描范圍：Y:±40mm（數(shù)字設定）