美NANO-MASTER SWC晶圓清洗系統(tǒng)SWC-4000

NANO-MASTER  SWC單晶圓清洗機

SWC-3000 臺式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)

SWC-4000 立柜式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)

SWC-5000 帶25片Cassette 機械手自動清洗

NANO-MASTER單晶圓清洗機（SWC）聚焦于提供最 大可能性的清洗能力，同時維持可承擔的擁有成本。標準系統(tǒng)配套有各種清洗能力，化學試劑清洗、刷子清洗、高轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)甩干帶紅外燈烘干和N2吹掃。 專 利技術(shù)的兆聲噴嘴運動確保兆聲能量的均勻傳送；因此，在晶圓表面的任何點，被傳送的能量可以保持在損傷閾值以內(nèi)。

特點：

** 12" 外徑圓片 7" x 7"方片
** 臺式系統(tǒng)/獨立式系統(tǒng)（SWC-4000）
** 文丘里動力真空
** 無損兆聲
** 獨立的化學試劑分布
** 帶熱氮的旋轉(zhuǎn)甩干
** 微處理器控制，觸摸屏編程和調(diào)用程序
** 化學試劑分布單元/4個3.8L的HDPE容器(SWC-4000)
** 雙排放口分別用于酸和溶劑（SWC-4000）
** 回吸閥防止試劑滴漏（SWC-4000）
** 安全聯(lián)鎖
** 占地面積19”x26”

選配：

** PVA刷子清洗（100RPM）
** CMP后刷子清洗（轉(zhuǎn)速最 大到400RPM）
** 氮離子發(fā)生器
** 去離子水電阻率監(jiān)控的CO2注入
** FM4910防火災材料
** 背面去離子水清洗和干燥（SWC-4000）
** 嵌入式加熱器用于去離子水或化學試劑（SWC-4000）
** 用于化學試劑盒DIW泄露檢測的傳感器（SWC-4000）

應用：

** 有圖案或無圖案掩模板及晶圓
** Ge，GaAs和InP晶圓清洗
** CMP后晶圓清洗
** 晶圓框架上的切割芯片清洗
** 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
** 掩模版白板或接觸掩模板清洗
** X光和遠紫外掩模板清洗
** 光學鏡頭清洗
** ITO涂覆的顯示面板清洗
** 兆聲輔助的剝離工藝

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