LMC-2000磁控濺射儀

裕隆時(shí)代LMC-2000磁控離子濺射儀

 

裕隆時(shí)代 LMC-2000磁控離子濺射儀，是專用于高倍掃描電鏡（SEM）圖像和電極制備的金屬鍍膜系統(tǒng)，成膜精細(xì)致密，能夠極為有效的提高電鏡觀測(cè)效果。

 

主要用途： 制備金、鉑、銀、銅、錫、鋅、銦、銻等金屬薄膜    

 

技術(shù)特點(diǎn)：

• 全自動(dòng)控制，操作簡(jiǎn)捷

• 鍍膜顆粒小，適用于場(chǎng)發(fā)射電鏡等高倍樣品觀測(cè)，和電極制備

• 無高熱損傷，適用于對(duì)溫度敏感的樣品

• 內(nèi)置操作向?qū)В瑹o需培訓(xùn)即可熟練操作

儀器參數(shù)

 

1.1 顯示屏: 5英寸 800×480 彩色觸摸屏

1.2 真空室： 高硅硼玻璃 φ125×125mm

1.3 可用靶材： 金、鉑、銀、銅、錫、鋅、銦、銻等金屬

1.4 真空系統(tǒng)： 1.1L/S 真空旋片泵

1.5 靶材尺寸：φ57×0.12mm

1.6 工作電流：5-45mA連續(xù)可調(diào)

1.7 工作時(shí)間：1-999s連續(xù)可調(diào)

1.8 工作氣體： 空氣或氬氣

1.9 產(chǎn)品尺寸： 424（L）×271（D）×255（H）

 

應(yīng)用案例

電池隔膜10萬倍（噴鉑）

 

客戶服務(wù)

裕隆時(shí)代擁有一支涉及眾多領(lǐng)域高素質(zhì)的應(yīng)用支持團(tuán)隊(duì)，向客戶提供完整的實(shí)驗(yàn)室解決方案和良好的售后服務(wù)。


我們承諾24小時(shí)內(nèi)對(duì)客戶需求做出反應(yīng)。

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