德國Osiris全自動濕法清洗刻蝕顯影系統(tǒng)

產(chǎn)品簡介

CHEMIXX (CL-E OR D) 1201具有集成處理模塊和機(jī)器人處理的單處理濕法系統(tǒng)適用于蝕刻、清潔或顯影工藝等應(yīng)用。該系統(tǒng)概念具有可編程排氣和精心設(shè)計(jì)的氣流，可在晶圓和襯底上提供極好的均勻度和清潔的表面。此應(yīng)用模塊配備有 BSR 噴嘴和多達(dá)三個可編程的點(diǎn)膠臂，同時提供了許多不同的噴嘴類型選項(xiàng)。I/O Station 配備 Foup 可用于最大 300 毫米的晶圓或最大 9 x 9 英寸的襯底（掩模），作為其他選項(xiàng)，我們還提供作為開放式卡塞盒的 I/O Station。內(nèi)部用戶界面具有所有需要的功能，例如配方編程、維護(hù)和用戶管理。所有必要的介質(zhì)供應(yīng)，如CDA、N2、真空和去離子水都可以通過插入式連接插入并由軟件控制。

產(chǎn)品特色

÷ 應(yīng)用領(lǐng)域：清洗、蝕刻或顯影

÷ 襯底尺寸可達(dá) ?300 毫米或可達(dá) 230 x 230 毫米

÷ 最多三個電動介質(zhì)臂

÷ 用于去離子水的不同類型的噴嘴和 BSR 噴嘴

÷ 去離子水室沖洗

÷ 電阻率 PH-Sensor 控制

÷ 單臂或雙臂機(jī)器人襯底處理

÷ 帶 FOUP 或 Cassette 的 IO-Station

÷ 真空或低接觸卡盤

÷ 用于10或40升不同化學(xué)品裝罐的外部介質(zhì)容器。

系統(tǒng)設(shè)計(jì)

÷ 系統(tǒng)框架由粉末涂層不銹鋼制成

÷ 加工區(qū)域?yàn)榭缮湘i透明門

÷ 由 PP 白色制成的工藝室（可選 ECTFE）

÷ 系統(tǒng)前端的緊急停止按鈕

÷ 兩個或多個排水分流器（傳感器控制和通過配方編程）

÷ 帶有四個光區(qū)的信號燈，使系統(tǒng)狀態(tài)可視化

÷ 可調(diào)水平腳和運(yùn)輸輪

÷ 滿足潔凈室等級 10 (ISO 4) 的通用設(shè)計(jì)

技術(shù)數(shù)據(jù)

通用

襯底尺寸: 最大可達(dá) ?300 mm (?12 inch) 或 230 x 230 mm (9 x 9 inch)

電機(jī)轉(zhuǎn)速: 最大 6.000 轉(zhuǎn)數(shù)*, 以 1 轉(zhuǎn) 步進(jìn)可編程

電機(jī)加速: 最大 40.000 轉(zhuǎn)/秒*, 以 1 轉(zhuǎn)/秒的步進(jìn)

步進(jìn)時間: 1 至 999.9 秒，步長為 0.1 秒

系統(tǒng)架構(gòu): 由粉末涂層不銹鋼制成，4 個可調(diào)節(jié)支腳和運(yùn)輸輪以及用于加工區(qū)域的透明和可鎖定的玻璃門

處理室: 由 PP 白色制成（可選 ECTFE）

加工碗: 由 PP 天然制成

*取決于卡盤設(shè)計(jì)、襯底重量和負(fù)載

要求

電源: 400(208) VAC / 3 相 / N / PE / 50(60) Hz

真空: -0.8 巴 （-80KPa）, 管 OD ?8 mm

CDA: 8 巴（800KPa）, 管 OD ?10 mm

氮: 4.5 巴（450KPa）, 管 OD ?10 mm

去離子水: 2-3 巴（200-300KPa）, OD ?16.7 mm (3/8”)

排氣過程: 1x OD ?110 mm, 50 - 120m3/h*

排氣容器: 1x OD ?110 mm, 50 - 180m3/h*

排水: 帶有高液位傳感器的廢物罐或設(shè)施排水管*

*化學(xué)和工藝相關(guān)