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ICP等離子刻蝕設(shè)備 刻蝕機(jī)品牌廠家
- 品牌:超邁光電
- 型號(hào): cmvac
- 產(chǎn)地:四川 成都
- 供應(yīng)商報(bào)價(jià):¥300000
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成都超邁光電科技有限公司
更新時(shí)間:2025-06-16 14:31:29
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銷售范圍售全國(guó)
入駐年限第1年
營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品刻蝕機(jī)(1件)
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產(chǎn)品特點(diǎn)
- 超邁光電ICP等離子刻蝕設(shè)備:
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)主要用于介質(zhì)薄膜干法刻蝕,包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等。 詳細(xì)介紹
超邁光電ICP等離子刻蝕
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)主要用于介質(zhì)薄膜干法刻蝕,包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等。
產(chǎn)品詳情
1.氣體種類:O2、CF4、CHF3、SF6、BCl3等
2.基片尺寸:zui大支持8英寸,并向下兼容6、5、4、3、2英寸等以及破片
3.射頻電源 ICP電源:13.56MHz,1400W; 偏壓電源:13.56MHz,800W
4.工藝溫度:10℃到80℃可控
5.傳送模式:自動(dòng)Loadlock傳送系統(tǒng)
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