尼康光刻機(jī) NSR-i12, NSR-1755G7,NSR-1755i7B,步進(jìn)式投影光刻機(jī)

Nikon 步進(jìn)光刻機(jī)及幾種研發(fā)常用試驗(yàn)機(jī)型資料

I線步進(jìn)式光刻機(jī) / I-line stepper

型號(hào)：Nikon NSR-I12

技術(shù)指標(biāo)及功能

廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)線，是6英寸，8英寸等主力I線生產(chǎn)機(jī)臺(tái)，適用于I線光刻膠的曝光，操作簡單，曝光精度準(zhǔn)，解析力最高可達(dá)0.35UM （350NM）

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Nikon G-line步進(jìn)光刻機(jī)

規(guī)格型號(hào)：Nikon NSR-1755G7

技術(shù)指標(biāo)及功能

適用于分辨率不低于0.65μm的大規(guī)模集成電路工藝器件量產(chǎn)的G-line步進(jìn)式光刻機(jī)。

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Nikon NSR 1755i7B 6英寸分步重復(fù)光刻機(jī) 

技術(shù)指標(biāo)及功能

把掩膜版上的圖形按照一定的比例縮小復(fù)制到涂布有光刻膠的晶圓上，分區(qū)域進(jìn)行步進(jìn)式曝光。本機(jī)臺(tái)可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圓高精度投影曝光，曝光精度可達(dá)500nm。
　　　基本指標(biāo)1. RESOLUTION：0.5μm
　　　        2. LENS DISTORTION：≤0.9μm
　　　　　　　3. RETICLE ALIGNMENT ACCURACY：≤0.02μm
　　　　　　　4. STEPPING ACCURACY：≤0.08μm
　　　　　　　5. OVERLAY ACCURACY：≤0.15μm(X,Y)
　　　　　　  6. OPEN FLAME(MAX. EXPOSURE AREA)：17.5×17.5mm

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步進(jìn)式投影光刻機(jī)

分辨率:0.35μm， 套刻精度:< 75nm, 十字線對準(zhǔn):5:1 ， 150毫米* 150毫米

Resolution：0.35μm, overlay accuracy：<75nm Reticle：5:1 150mm*150